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石英砂加工什么設(shè)備好？高純石英砂生產(chǎn)工藝
石英砂加工什么設(shè)備好？高純石英砂生產(chǎn)工藝。高純石英砂一般是指含硅量高于99.9%的石英微粉，主要用于集成電路和石英玻璃行業(yè)，其中高檔產(chǎn)品更廣泛地應(yīng)用于大、中型集成電路、光纖、激光、航天和軍事等領(lǐng)域。高純石英砂為中性無(wú)機(jī)填料，無(wú)結(jié)晶水，不參與被填充物的化學(xué)反應(yīng)，是一種非常穩(wěn)定的礦物填料，廣泛用于塑料、橡膠、陶瓷、涂料等領(lǐng)域，既可增加產(chǎn)品的多種新功能，又可節(jié)省大量原材料。
石英砂加工什么設(shè)備好？高純石英砂生產(chǎn)工藝的技術(shù)要求
一是粗選：對(duì)各種石英原礦中雜質(zhì)和雜質(zhì)進(jìn)行明顯的去除；
破碎：利用專業(yè)破碎機(jī)對(duì)石英原礦進(jìn)行破碎，使原礦粒徑1~20mm；
水淬：將燒毀的石英顆粒放入冷水中迅速冷卻，以達(dá)到去除礦物內(nèi)部氣泡、紋路和某些包裹雜質(zhì)的目的，從而使礦物開(kāi)裂。水淬鍛燒法也稱為熱破碎法，是指在高溫鍛燒下，石英會(huì)發(fā)生晶形轉(zhuǎn)變(α-石英→β-鱗狀石英)，從而使晶體體積增大，原缺陷程度加重，水淬后晶體體積突然減小，晶體內(nèi)應(yīng)力迅速增加，導(dǎo)致晶體在缺陷處破裂。晶粒破裂時(shí)，原石英中的包裹體和裂縫中的雜質(zhì)會(huì)暴露在微粒表面，酸性處理可以很容易去除。
四是粉碎：原料經(jīng)濕式研磨或干式研磨制成粒徑在5~50微米的超細(xì)砂；
五是高梯磁磁選：選用磁場(chǎng)強(qiáng)度在50~15000高斯之間的高梯磁選設(shè)備，將原料本身及在生產(chǎn)過(guò)程中引入的鐵及這些單質(zhì)的化合物等單質(zhì)分離出來(lái)；
六、分級(jí)：利用分級(jí)裝置將原料按標(biāo)準(zhǔn)劃分為多個(gè)粒度范圍產(chǎn)品，后續(xù)處理時(shí)，根據(jù)不同的粒度范圍分別處理；
第七，焙燒：采用專業(yè)焙燒爐，在300℃~1500℃的條件下焙燒石英原礦顆粒2~5小時(shí)；
八、水碎：將燒制過(guò)的石英顆?？焖俜湃胧覂?nèi)溫水中冷卻，溶解掉焙燒過(guò)程中產(chǎn)生的易溶物，并對(duì)水加熱0.5~2小時(shí)，以提高這部分可溶物在水中的溶解度。
九、浮選：向水碎石英砂細(xì)粉中加入浮選劑，去除比重小于1的雜質(zhì)；
十、去離子洗滌：用去離子洗滌法去除石英砂表面殘留的浮選劑和雜質(zhì)；
十一、干燥：先將去離子洗滌石英砂風(fēng)干(晾干)等大量水分，然后用專用干燥設(shè)備干燥，再加熱至100℃~200℃；
十二、酸浸：將干燥石英砂加入浸漬槽，在干燥高溫條件下快速加入酸浸所用的酸(硫酸、鹽酸、硝酸或氫氟酸)，其酸濃度為5~20%，恒溫?cái)嚢?~24小時(shí)，以除去石英砂細(xì)粉中的微量金屬和非金屬雜質(zhì)；酸浸是高純石英砂提純工藝中的重要工序，無(wú)論是電光源石英玻璃的制備，還是用于制備光伏電池及半導(dǎo)體設(shè)備的石英原料，均應(yīng)采用。酸浸主要是除去溶解在酸中的金屬氧化物和部分硅酸鹽礦物。經(jīng)過(guò)焙燒水淬、選礦、強(qiáng)磁選等工藝處理后，大部分氧化物及雜質(zhì)礦物已被去除，但仍有一些存在于晶界、微裂縫及晶體內(nèi)部，去除過(guò)程中存在一定的困難，因此采用酸浸時(shí)間較長(zhǎng)的方法去除這些雜質(zhì)。
十三、去離子洗滌：將經(jīng)過(guò)酸浸的原料用去離子水洗去原料所含的酸液等，直至呈中性；
十四、干燥包裝：原料經(jīng)特殊干燥設(shè)備干燥后，經(jīng)凈化車(chē)間真空包裝，即得產(chǎn)品。
石英砂凈化
石英砂加工什么設(shè)備好？高純石英砂生產(chǎn)工藝的技術(shù)要求
一是粗選：對(duì)各種石英原礦中雜質(zhì)和雜質(zhì)進(jìn)行明顯的去除；
破碎：利用專業(yè)破碎機(jī)對(duì)石英原礦進(jìn)行破碎，使原礦粒徑1~20mm；
水淬：將燒毀的石英顆粒放入冷水中迅速冷卻，以達(dá)到去除礦物內(nèi)部氣泡、紋路和某些包裹雜質(zhì)的目的，從而使礦物開(kāi)裂。水淬鍛燒法也稱為熱破碎法，是指在高溫鍛燒下，石英會(huì)發(fā)生晶形轉(zhuǎn)變(α-石英→β-鱗狀石英)，從而使晶體體積增大，原缺陷程度加重，水淬后晶體體積突然減小，晶體內(nèi)應(yīng)力迅速增加，導(dǎo)致晶體在缺陷處破裂。晶粒破裂時(shí)，原石英中的包裹體和裂縫中的雜質(zhì)會(huì)暴露在微粒表面，酸性處理可以很容易去除。
四是粉碎：原料經(jīng)濕式研磨或干式研磨制成粒徑在5~50微米的超細(xì)砂；
五是高梯磁磁選：選用磁場(chǎng)強(qiáng)度在50~15000高斯之間的高梯磁選設(shè)備，將原料本身及在生產(chǎn)過(guò)程中引入的鐵及這些單質(zhì)的化合物等單質(zhì)分離出來(lái)；
六、分級(jí)：利用分級(jí)裝置將原料按標(biāo)準(zhǔn)劃分為多個(gè)粒度范圍產(chǎn)品，后續(xù)處理時(shí)，根據(jù)不同的粒度范圍分別處理；
第七，焙燒：采用專業(yè)焙燒爐，在300℃~1500℃的條件下焙燒石英原礦顆粒2~5小時(shí)；
八、水碎：將燒制過(guò)的石英顆?？焖俜湃胧覂?nèi)溫水中冷卻，溶解掉焙燒過(guò)程中產(chǎn)生的易溶物，并對(duì)水加熱0.5~2小時(shí)，以提高這部分可溶物在水中的溶解度。
九、浮選：向水碎石英砂細(xì)粉中加入浮選劑，去除比重小于1的雜質(zhì)；
十、去離子洗滌：用去離子洗滌法去除石英砂表面殘留的浮選劑和雜質(zhì)；
十一、干燥：先將去離子洗滌石英砂風(fēng)干(晾干)等大量水分，然后用專用干燥設(shè)備干燥，再加熱至100℃~200℃；
十二、酸浸：將干燥石英砂加入浸漬槽，在干燥高溫條件下快速加入酸浸所用的酸(硫酸、鹽酸、硝酸或氫氟酸)，其酸濃度為5~20%，恒溫?cái)嚢?~24小時(shí)，以除去石英砂細(xì)粉中的微量金屬和非金屬雜質(zhì)；酸浸是高純石英砂提純工藝中的重要工序，無(wú)論是電光源石英玻璃的制備，還是用于制備光伏電池及半導(dǎo)體設(shè)備的石英原料，均應(yīng)采用。酸浸主要是除去溶解在酸中的金屬氧化物和部分硅酸鹽礦物。經(jīng)過(guò)焙燒水淬、選礦、強(qiáng)磁選等工藝處理后，大部分氧化物及雜質(zhì)礦物已被去除，但仍有一些存在于晶界、微裂縫及晶體內(nèi)部，去除過(guò)程中存在一定的困難，因此采用酸浸時(shí)間較長(zhǎng)的方法去除這些雜質(zhì)。
十三、去離子洗滌：將經(jīng)過(guò)酸浸的原料用去離子水洗去原料所含的酸液等，直至呈中性；
十四、干燥包裝：原料經(jīng)特殊干燥設(shè)備干燥后，經(jīng)凈化車(chē)間真空包裝，即得產(chǎn)品。
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